パナソニック、新「nanoe X」を開発　カビ抑制時間を従来比半分に

パナソニックは2026年9月28日、新しい「nanoe X」発生デバイスを開発したと発表しました。OHラジカルを毎秒72兆個へ高め、カビ抑制に寄与する成分を増やし、従来世代と比べてカビ抑制時間を半分にしたとしています。

OHラジカルは毎秒72兆個

新nanoe XのOHラジカル発生量は毎秒72兆個です。従来世代の毎秒4800億個に対して150倍です。

カビ抑制時間を半分に

約24立方メートル相当の試験空間で、表面付着カビを抑制するまでの時間が従来世代の半分になりました。試験条件下の結果であり、実環境で同じ時間を保証するものではありません。

カビ抑制成分も増加

カビ抑制に寄与するNOラジカルも従来世代より増えたことを確認しています。

カビ内部のタンパク質にも作用

解析では細胞膜への損傷率を高めるだけでなく、代謝や増殖に関わる内部タンパク質を変性させる仕組みが確認されました。

搭載製品や発売日は未発表

今回の中心は発生デバイスの技術発表です。具体的な搭載製品や発売日は示されていません。

まとめ

新nanoe XはOHラジカル量とカビ抑制成分の双方を強化した技術です。今後は生活、モビリティ、公共空間への展開が注目されます。